1、色彩表现：高穿透度、高饱和度、高对比度
2、制程特性：高涂布均匀性、高感光度、较大显影制程窗口
3、可靠度：高耐热性、高耐光性、高耐化学性、高储存稳定性
依据客户需求调整规格
具有曝光灵敏度高、对比度高、分辨率高、且具有良好的工艺宽裕度。可应用于AMOLED、LCD及相关半导体制造工艺
满足于i-线，g-线、g-h-i线曝光，可实现1.5μm分辨率
涂布：spin或slit
前烘：110℃，160sec
曝光： i-线，g-线、g-h-i线曝光
显影：TMAH 2.38% ，60s
坚膜：130 ℃ ，140sec
